制药纯水设备装置的要求

　　制药纯水设备遵循模块化设计理念,以预处理、氧化消毒、多介质过滤、RO反渗透、UV消毒、EDI连续去离子和储存外输等功能单元为基础,在设计、制造、调试过程中将莱特莱德水处理先进的技术、的工艺和严格的质量控制贯彻到每个功能单元;zui终产水装置根据其用水标准的不同,经由各功能模块优化组合而成,从而保证了整个系统的高性能与高质量,使产成水*达到或超过纯化水和注射用水的水质标准.

　　制药纯水设备装置的要求

　　1、结构设计应简单、可靠、拆装简便.

　　2、为便于拆装、更换、清洗零件,执行机构的设计尽量采用的标准化、通用化、系统化零部件.

　　3、设备内外壁表面,要求光滑平整、*,容易清洗、灭菌.零件表面应做镀铬等表面处理,以耐腐蚀,防止生锈.设备外面避免用油漆,以防剥落.

　　4、制备超纯水设备应采用低碳不锈钢或其他经验证不污染水质的材料.制备纯化水的设备应定期清洗,并对清洗效果验证.

　　5、注射用水接触的材料必须是低碳不锈钢(例如316L不锈钢)或其他经验证不对水质产生污染的材料.制备注射用水的设备应定期清洗,并对清洗效果验证.

　　6、纯化水储存周期不宜大于24小时,其储罐宜采用不锈钢材料或经验证无毒,耐腐蚀,不渗出污染离子的其他材料制作.保护其通气口应安装不脱落纤维的疏水性除菌滤器.储罐内壁应光滑,接管和焊缝不应有死角和沙眼.应采用不会形成滞水污染的显示液面、温度压力等参数的传感器.对储罐要定期清洗、消毒灭菌,并对清洗、灭菌效果验证.

　　制药纯水设备应用领域

　　电解电容器生产铝箔及工作件的清洗;

　　电子管生产、显像管和阴极射线管生产配料用纯水;

　　黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水;

　　生产液晶显示器的屏面需用纯水清洗和用纯水配液;

　　晶体管生产中纯水主要用于清洗硅片;

　　集成电路生产中高纯水清洗硅片;

　　半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路用纯水;

　　半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗;

　　高品质显像管、萤光粉生产;

　　汽车、家电表面抛光处理等;