去离子水设备的工艺大致可分四种

　　去离子水设备采用技术成熟,先进的反渗透设备,反渗透设备主要是通过膜两侧的压差为动力,只允许水通 过而截留除了氢离子和氧离子的其他离子,对各种离子除去率也不一样,这个也是由于其结构和原理所决 定的,据统计反渗透对3+离子的去除率大概在95%-99%,对2+离子的去除率在92%-99%%,对1+离子去除率在 70%-95%左右.对2-阴离子去除率80%-90%,1-阴离子去除率在75%-95%左右,除硝酸根离子去除率50%-75%.

　　去离子水设备的工艺大致可分为四种:

　　*种:采用阳阴离子交换树脂取得的去离子水,一般通过之后,出水电导率可降到10us/cm以下,再经过混 床就可以达到1us/cm以下了.但是这种方法做出来的水成本*,而且颗粒杂质太多,达不到理

　　想的要求.已较少采用了.

　　第二种:预处理(即砂碳过滤器+精密过滤器)+反渗透+混床工艺

　　这种方法是目前采用zui多的,因为反渗透投资成本也不算高,可以去除90%以上的水中离子,剩下的离子再 通过混床交换除去,这样可使出水电导率:0.06左右.这样是目前zui流行的方法.

　　第三种:采用两级反渗透方式

　　其流程如下:

　　自来水-多介质过滤器-活性炭过滤器-软化水器-中间水箱-低压泵-精密过滤器-一级反渗透-PH调节-混合 器-二级反渗透(反渗透膜表面带正电荷)-纯水箱-纯水泵-微孔过滤器-用水点

　　第四种:前处理与第二种方法一样使用反渗透,只是后面使用的混床采用EDI连续除盐膜块代替,这样就不 用酸碱再生树脂,而是用电再生.这就*使整个过程无污染了,经过处理后的水质可达到:15M以上.但这 这种方法的前期投资比较多,运行成本低.根据各公司的情况做适当的投资.

　　功能特点:

　　1. 去离子水设备采用了自冲洗过滤器,开机时自动冲洗,有效延长RO膜的使用寿命;

　　2. 水质在线检测功能随时了解出水水质情况.

　　3. 全自动冲洗,水满停机功能;

　　4. 自动化程度高、占地面积小、安装方便、经济实用等特点;

　　5. 直接连接自来水,使用简单,一键操作;

　　去离子水设备应用领域:

　　1、制取电子工业生产水处理设备如单晶硅纯水设备、半导体纯水处理、集成电路块用水设备、IC芯片封 装用水工程、显象管用水处理、玻壳超纯水处理、LCD清洗用水、光学水处理、光电用水处理、热电厂用 水处理、冶金工业用水、化工纯水设备、轻工工程用水、汽车制造清洗用水、制药纯化水、医疗卫生等 制造工业用纯水.

　　2、单晶硅超纯水处理、半导体纯水设备、集成电路块用水、IC芯片封装行业纯水设备、太阳能硅片清洗 水设备

　　3、医药行业用水,制药无菌注射用水、制剂工艺用水,医疗血液透析用水、生化分析纯水处理、输液医药 用水等.

　　4、制取热力、火力发电锅炉用水,厂矿企业中、低压锅炉给水所需软化水、除盐纯水.

　　5、制取饮料行业的饮用纯净水、蒸馏水、天然水、矿泉水、矿化水设备、酒类生产白酒勾兑用纯水、啤 酒糖化投料用水及纯生啤酒过滤等.